一款適合電鍍廠測量鍍層厚度的便宜耐用的儀器。

它配備了一個固定的準直器和濾片，射線管出射

點稍大，非常適合測量點在1mm以上的應(yīng)用。低

能射線元件激發(fā)效率較低；但是對于標準的測量典

型電鍍層厚度的應(yīng)用，如Cr、Ni、Cu，沒有任何問題。

多用途的鍍層厚度測量儀。無論是薄的還是厚的鍍層（如50 nm Au或100 μm Sn）都通過選擇好的高壓濾片組合很好地測量。微聚焦管可以達到在很短的測量距離內(nèi)小到100 μm的測量點大小。高達數(shù)kcps的計數(shù)率可以被比例接收器接收到。

FISCHERSCOPE  XAN 110/120

FISCHERSCOPE  XAN

專門為分析金合金開發(fā)的劃算的儀器。比較

XAN而言，只有一個固定的準直器和固定的

濾片，特別適合貴金屬分析。XAN 110配備

比例接收器，適于幾種合金元素的簡單分析。

XAN 120配備了半導體接收器，更可以應(yīng)用于

多元素的復雜分析。

分析儀器，測量方向從下到上。用途廣泛。測量室全封閉，可以使用大準直器分析，高計數(shù)率也可以被硅漂移探測器處理。激發(fā)和輻射檢測方式與XDV-SDD相同。它是金合金分析和塑料中有害物質(zhì)痕量分析的理想儀器。

FISCHERSCOPE XDL

FISCHERSCOPE XDLM

適合鍍層厚度測量的耐用儀器，即使大測量距

離也可以測量（DCM，范圍0-80mm）。配

備一個固定的準直器和固定的濾片。適合測量

點在1mm以上的應(yīng)用；跟XUL類似?？蛇x用自

動測量的可編程工作臺。

比XDL適用面更廣，配備微聚焦管，4個可切換的準直器和3個基本濾片。測量頭
與XULM相似；適合于測量小的結(jié)構(gòu)如接插件觸點或印刷線路板，也可以測量大的
工件（DCM，范圍0-80 mm）。

FISCHERSCOPE  XDAL

FISCHERSCOPE  XDV-SDD

與XDLM類似但配備了半導體接收器。這樣就可

能可以分析元素和測量超薄鍍層（基于良好的信

噪比）。因為信號強度略低，不太適合測量較小的結(jié)構(gòu)。

適合于全部應(yīng)用的機型。根據(jù)測量點大小和光譜組成，激發(fā)方式靈活多樣。配備了硅漂移接收器，即使強度高達>100kcps的信號也可以在不損失分辨率的情況下處理

FISCHERSCOPE  XDV-μ

FISCHERSCOPE 

于微觀分析的測量儀器。根據(jù)X射線光學部件

的不同，可以分析小到100μm或更小的結(jié)構(gòu)。強

度很高所以精度也非常好。即使很薄的鍍層，測量

不確定性小于1nm也是可能的。僅適于測量空白或

接近空白的樣品。

具備綜合測量能力的通用機型。與XDV-XDD相當，但另外配備了可抽真空的測量室，這樣就使得分析從原子序數(shù)Z=11（Na）開始的輕元素成為可能。高精度的馬達驅(qū)動的XYZ平臺和視頻攝像頭可以準確定位樣品位置和測量細小部件